国内外计算光刻软件厂商 主流计算光刻软件主要包括Tachyon(荷ASML/Brion)、Prolith(美国KLA)、Calibre(Mentor)等，其中ASML在SMO有优势，Mentor在OPC优势明显，Synopsys内容丰富。宇微光学、东方晶源推出OPC软件，填补国内OPC空白，且东方晶源创新地解决ILT难题，显著提升良率 1. ASML，主要产品Tachyon，Tachyon OPC+和光刻可制造性检查应用程序现可整合ASML的EUV预生产扫描仪软件模型，SMO国际领先光源-掩膜协同优化软件，全球市场占有率第一 2. KLA，主要产品PROLITH，包含EUV光刻技术及多重图形技术，帮助IC设计人员评估多光刻变量影响，同时显着减少确定可行解决方案所需的时间 3. Mentor，主要产品Calibre，针对次波长设计，Calibre则利用阶层式验证引擎提供一组套装工具，可以新增或建立模型，并且验证四种主要的解析度强化技术，分别是光学制程修正(OPC)、相位移光罩(PSM)、Scattering Bar和偏轴照明(OAI)技术 4. Synopsys，主要产品Proteus，OPC类型Proteus使用双领域仿真引擎，将场仿真与域仿真二者技术之长集于一身，为密集设计和稀疏设计提供最准确OPC结果 和最快的周转时间。ILT是业界首个、生产部署最广泛的反向光刻解决方案，可提供最大的工艺窗口、更高的产量和更快的上市时间，同时延迟对昂贵的新硬件和多重图案技术的需求 5. 英伟达，主要产品cuLitho，在GPU之上构建cuLitho计算光刻技术软件库，cuDOP用于衍射光学，cuCompGeo用于计算几何，cuOASIS用于优化，cuHierarchy用于AI，cuLitho已被EDA工具厂商新思采用 6. Anchor Semiconductor，I2DC将仿真与真实进行对比，以分析OPC工作流程并进行调整；M-DPL建立中央数据库用于收集图形搜索、新设备风险分析、OPC模拟薄弱点对比等案例；NanoScope PRV基于模型的全芯片Post-RET/OPC验证软件解决方案，可提供精确光刻工艺建模、全面缺陷检测和分析及工艺窗口限制模式提取等功能 7. 东方晶源，主要产品HPOT"，OPC完全自研，技术处于国际领先，可支持更低技术节点验证。ILT通过深度学习和大数据对光刻制程精确建模，优化工艺窗口，确保良率，同时基于HPOT“的整体设计理念具有上下游可扩展性，无缝连接设计和制造，实现芯片良率的显著提升 8. 宇微光学，已成功研发全国产、自主可控计算光刻OPC软件，填补国内空白。目前正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证 #热门# #科技# #半导体# #动态夏日征集令#